薄膜空隙率及其有关问题的探讨

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薄膜空隙率及其有关问题的探讨

更新时间：2024-09-14

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- 薄膜空隙率及其有关问题的探讨
- 薄膜空隙率及其有关问题的探讨
- 电力电容器与无功补偿 1999年第4期页码：38-45
- 作者机构：
  
  安徽铜峰电子股份有限公司,安徽,244000
- 作者简介：
- 基金信息：
- DOI：
  中图分类号： TM53
- 纸质出版日期：1999，
- 稿件说明：
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[1]储松潮.薄膜空隙率及其有关问题的探讨[J].电力电容器,1999(04):38-45.

薄膜空隙率及其有关问题的探讨. [J]. Power capacitor & reactive power compensation, 1999, (4): 38-45.
[1]储松潮.薄膜空隙率及其有关问题的探讨[J].电力电容器,1999(04):38-45. DOI：

薄膜空隙率及其有关问题的探讨. [J]. Power capacitor & reactive power compensation, 1999, (4): 38-45. DOI：

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